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Dispersion machine
  • 高剪切混合分散机

    CR2000系列管线式高剪切混合分散机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。

  • 高剪切均质分散机

    高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是最重要的。根据一些行业特殊要求,切可公司在CR2000系列的基础上又开发出CRS2000超高速分散机。其剪切速率可以超过14000 rpm,转子的速度可以达到44m/s。

  • 管线式高剪切分散机

    三级连续管线式高剪切分散机,主要应用于处理大量乳液和生成超细悬乳液。由于同时用三个工作头(转子和定子)进行处理,可获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒,因而生成的混合液的稳定性更好。

  • 三级高剪切分散机

    CR2000系列管线式高剪切分散机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。

  • 超高速分散机

    超高速分散机的高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是最重要的。根据一些行业特殊要求,切可公司在CR2000系列的基础上又开发出CRS2000超高速分散机。其剪切速率可以超过100.00 rpm,转子的速度可以达到44m/s。

Colloid mill
  • 锥体磨

    切可(上海)机械设备有限公司另外一项独特的创新,就是NKO2000系列锥体磨(胶体磨),它的设计使其功能在原有的NK2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项创新,NKO2000系列锥体磨(胶体磨)能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨NK2000还小。

  • 陶瓷胶体磨

    切可(上海)机械设备有限公司另外一项独特的创新,就是NKC2000系列陶瓷胶体磨,它的设计使其功能在原有的NKC2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项NKC2000系列陶瓷胶体磨能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨NK2000还小。

  • 超高速胶体磨

    根据一些行业的特殊要求, CIK 在NK2000系列胶体磨的基础上又开发了一款NKS2000高速胶体磨,转子的线速度可以达到44M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

  • 实验室胶体磨

    实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

  • 中试型胶体磨

    中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

  • 高剪切胶体磨

    三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,最小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

Emulsification machine
  • 超高速胶体磨

    根据一些行业的特殊要求, CIK 在NK2000系列胶体磨的基础上又开发了一款NKS2000高速胶体磨,转子的线速度可以达到44M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

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